temperature controlled pulsed RF ablation. the present invention describes embodiments that include a system that includes a radio frequency current generator (RF current) and a processor. the processor is configured to cause the rf current generator to generate a plurality of rf current pulses for application to an individual's tissue, each pulse having a power whose maximum value is greater than 80 w, and a duration that is less than 10 seconds and an intermission between successive pulses that is less than 10 seconds. the processor is additionally configured so that, while each pulse is applied to the tissue, it receives at least one signal indicating a measured tissue temperature and, in response to the measured temperature, controls the pulse power. other modalities are also described.ablação por rf pulsada controlada por temperatura. a presente invenção descreve modalidades que incluem um sistema que inclui um gerador de corrente de radiofrequência (corrente de rf) e um processador. o processador é configurado para fazer com que o gerador de corrente de rf gere uma pluralidade de pulsos de corrente de rf para a aplicação ao tecido de um indivíduo, sendo que cada um dos pulsos tem uma potência cujo valor máximo é maior que 80 w, e uma duração que é menor que 10 segundos e uma intermissão entre pulsos sucessivos que é menor que 10 segundos. o processador é configurado adicionalmente para, enquanto cada um dos pulsos é aplicado ao tecido, receber ao menos um sinal que indica uma temperatura medida do tecido e, em resposta à temperatura medida, controlar a potência do pulso. outras modalidades também são descritas.
