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Addition cleavage oligomers with high refractive index groups
专利权人:
スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー
发明人:
フォルノフ, アン アール.,モーザー, ウィリアム エイチ.,ジョリー, ガイ ディー.,フォルノフ, アン アール.,モーザー, ウィリアム エイチ.,ジョリー, ガイ ディー.
申请号:
JP2016552626
公开号:
JP2017515790A
申请日:
2015.02.10
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
An addition-cleavage oligomer represented by the following general formula. Z-By-A- (BA) x-BA-By-Z (wherein the A monomer unit is derived from a diester or a diacid, and the monomer B is an acidic group of the monomer A) Or derived from a bifunctional monomer having a functional group that co-reacts with an ester group, x + y is 0 to 60, Z includes an ethylenically unsaturated polymerizable group, and monomer A is 1-methylene-3 , 3-dimethylpropyl group and at least one B monomer unit contains a high refractive index group.)下記一般式で表される付加開裂オリゴマー。 Z-By-A-(B-A)x-B-A-By-Z(前記式中、Aモノマー単位は、ジエステル又は二酸に由来するものであり、モノマーBは、モノマーAの酸性基又はエステル基と共反応する官能基を有する二官能モノマーに由来するものであり、x+yは0~60であり、Zはエチレン性不飽和重合性基を含み、モノマーAは、1-メチレン-3,3-ジメチルプロピル基を含み、そして少なくとも1つのBモノマー単位は、高屈折率基を含む。)【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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