the system of micro deposition of material on a substrate, in particular for the manufacture of a denture or a scaffold boneincluding a chamber of deposition in a controlled atmosphere, closeable and depressurizzabile.a first arm (st) to support configured to support a target and a second arm (ss) of the support component configured to support a substrate subject to micro deposition.at least one emitter to irradiate a target associated with the backup target according to one of these techniques pld and / or ped.where the first and second arm are equipped with piezoelectric actuators (10, 12, 13, 9) disposed to be controlled with higher precision.Sistema di micro-deposizione di materiale su un substrato, in particolare per fabbricazione di una protesi dentaria o di uno scaffold osseo, comprendente una camera di deposizione ad atmosfera controllata, chiudibile e depressurizzabile, un primo braccio (ST) di supporto configurato per supportare un target ed un secondo braccio (SS) di supporto componente configurato per supportare un substrato oggetto di micro-deposizione, almeno un emettitore atto ad irradiare un target associato al supporto target secondo una delle suddette tecniche PLD e/o PED, in cui detti primo e secondo braccio sono dotati di attuatori piezoelettrici (10, 12, 13, 9) disposti per essere controllati con precisione nanometrica.
