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親水化装置
专利权人:
パナソニック株式会社
发明人:
山口 友宏,大江 純平,須田 洋,中田 隆行
申请号:
JP2008235492
公开号:
JP5237732B2
申请日:
2008.09.12
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrostatic atomizing device washing down attached matter with low hydrophilicity like wax by water in a simple manner, and to provide a hydrophilizing device having the same.SOLUTION: The hydrophilizing device B is constituted by disposing the electrostatic atomizing device A increasing the hydrophilicity of the attached matter 15 by spraying charged fine particle water in a storage box 2 in which a treating object 1 having the attached matter 15 with low hydrophilicity on its surface can be arranged. By spraying the charged fine particle water to the treating object 1 for a certain period, the attached matter 15 can be washed down in a simple manner by subsequent water washing.COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT【課題】 ワックス等の親水性の低い付着物を、水洗いによって簡単に洗い流すことを可能とする静電霧化装置及びこれを備えた親水化装置を提供する。【解決手段】 親水性の低い付着物15を表面に有する処理対象物1を配置することのできる収納ボックス2内に、帯電微粒子水を噴霧することで付着物15の親水性を向上させる静電霧化装置Aを配置することで、親水化装置Bを構成する。処理対象物1に対して一定期間だけ帯電微粒子水を噴霧すれば、その後の水洗いによって付着物15を簡単に洗い落とすことが可能となる。【選択図】 図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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