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パターン形成インプラントおよび方法
专利权人:
エーエムエス リサーチ コーポレイション
发明人:
カール エー.ジャガー,ディーン ハッカー,ジェシカ フェルトン,ジョン アール.フリグスタッド,アレックス ピーターソン
申请号:
JP2012540159
公开号:
JP2013511364A
申请日:
2010.11.23
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
A simplicial pattern formation or implant a uniform is provided. The implant is formed by patterning a plurality of sections which are formed molded, die-casting, laser etching, laser cutting and the like. By being formed into strut members corrugated or another sinusoidal, the portion of the implant may facilitate control and extending along the axis of the single or multiple, shrinkage or expansion. Because the stress over the area that is localized or particular implant, the specified and controlled distribution of tension and compression is facilitated. [Selection] Figure Figure 1単体的なまたは均一なパターン形成インプラントが提供される。該インプラントは、型成形、ダイキャスト、レーザ・エッチング、レーザ切断などにより形成された複数のパターン化区画により構成される。インプラントの各部分は、正弦波状または別の波形状のストラット部材へと形成されることで、単一または複数の軸心に沿う伸び、拡開または収縮を制御かつ促進し得る。その故に、インプラントの特定のまたは局限された領域にわたり、制御され且つ指定された応力、張力および圧縮力の分布が促進される。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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