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马铃薯半高垄覆膜自破膜出苗栽培方法
专利权人:
内蒙古自治区农牧业科学院
发明人:
路战远,张向前,程玉臣,叶雪松,张德健,张海林,韩润宝,杨彬,刘孝忱,张建中,咸丰,白海,王玉芬,智颖飙,郭晓霞,张荷亮,孙鸿举,张富荣,李艳艳,李娟
申请号:
CN201510043098.3
公开号:
CN104938168A
申请日:
2015.01.23
申请国别(地区):
中国
年份:
2015
代理人:
王社
摘要:
本发明公开了一种马铃薯半高垄覆膜自破膜出苗栽培方法,播种方式为半高垄作膜下滴灌采用大小垄双行种植模式,在垄台上播种,小行距为30~35cm,大行距为55~60cm,株距为32~38cm,播种密度为52500~60000株/hm2,滴灌管铺设在小行距中间,播种时间在5月上旬,当土壤10cm深处地温达到8~10℃时即可播种,播种深度为6~12cm。起垄整形的垄高为10cm的半高垄,垄台宽度为50~65cm,垄距100~130cm。膜上覆土厚度为5~7cm,覆土时间为播后当天或集中在5~7d内完成。由于本发明采用播种后在地膜上全覆土的方法,有效改善了土壤的肥水条件,起到避免春季风大吹破地膜,达到抑制畦面长草的效果。本栽培方法有提高地温,缩短出苗及收获时间,且马铃薯自行破膜出土的优点。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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