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生物膜形成抑制剂和/或除去剂、以及生物膜形成抑制方法和/或除去方法
- 专利权人:
- 星光PMC株式会社
- 发明人:
- 五十岚亮二,久保武
- 申请号：
- CN201580058255.6
- 公开号：
- CN107072201A
- 申请日:
- 2015.10.29
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明的课题在于，提供：安全性高、且生物膜的形成抑制能力和/或所形成的生物膜的除去能力优异的药剂以及使用其的生物膜的形成抑制方法和/或生物膜除去方法。提供生物膜形成抑制剂和/或除去剂、以及使用它们的生物膜形成抑制方法和/或除去方法，所述生物膜形成抑制剂和/或除去剂含有选自下述通式(1)所示的邻氨基苯甲酸或邻氨基苯甲酸衍生物、或者它们的盐中的1种以上作为有效成分。(式中，R1～R4分别独立地表示下述。R1：C(＝O)OH(羧基)、C(＝O)NH2、C(＝O)OCnH2n+1(烷基酯：n＝1～4)，R2、R3：卤原子、硝基、氢原子，R4：氢原子、CH3C(＝O)(乙酰基)、CH3C(＝O)CH2C(＝O)(乙酰乙酰基))。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
