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一种A7R肽修饰的硫化银掺杂中空介孔硅靶向纳米诊疗剂及其制备和应用
专利权人:
东华大学
发明人:
朱利民,吴建荣,高峰,牛世伟,李赫宇
申请号:
CN201811033563.5
公开号:
CN109248316A
申请日:
2018.05.09
申请国别(地区):
CN
年份:
2019
代理人:
摘要:
本发明涉及一种A7R肽修饰的硫化银掺杂中空介孔硅靶向纳米诊疗剂及其制备和应用。该纳米诊疗剂包括Ag2S、A7R肽、DOX和中空介孔二氧化硅颗粒。制备方法包括:sSiO2@mSiO2纳米粒子的制备,中空介孔二氧化硅颗粒HMSNs制备,巯基修饰的中空介孔二氧化硅制备,HMSNs@Ag2S制备,HMSNs@Ag2S‑A7R制备,HMSNs@Ag2S‑A7R(DOX)制备。该方法简单,易于操作,反应条件温和,具有产业化实施的前景。该纳米诊疗剂具备载药量高、优异的生物相容性和特异性靶向功能,具有应用于肿瘤化‑光热协同治疗的前景。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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