多方向相衬X射线成像

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专利权人:

皇家飞利浦有限公司

发明人:

E·勒斯尔,T·克勒

申请号：

CN201380006588.5

公开号：

CN104066375A

申请日:

2013.01.22

申请国别(地区):

CN

年份:

2014

代理人:

摘要：

本发明涉及对象的相衬X射线成像。为了提供在多于一个方向的相衬信息，提供一种X射线成像系统，所述X射线成像系统包括X射线源(12)、X射线探测器装置(16)、以及具有相位-光栅结构(46)和分析器-光栅结构(48)的光栅装置(18)。所述X射线探测器装置包括在第一方向平行于彼此的至少八个线探测器单元(40)，所述至少八个线探测器单元在垂直于所述第一方向的方向(44)线性延伸。所述X射线源、所述X射线探测器装置和所述光栅装置适于在平行于所述第一方向的扫描方向执行相对于对象的采集移动。所述相位-光栅结构具有若干线性相位-光栅，它们中的每个被布置为与所述至少八个线探测器单元中指定的线固定关联；第一部分作为在所述第一方向具有狭缝的第一相位-光栅，并且第二部分作为在不同于所述第一方向的第二方向具有狭缝的第二相位-光栅。所述分析器-光栅结构具有若干线性分析器-光栅，它们中的每个被布置为与所述至少八个线探测器单元中指定的线固定关联；第一部分作为在所述第一方向具有狭缝的第一分析器-光栅，并且第二部分作为在所述第二方向具有狭缝的第二分析器-光栅。所述线探测器单元中的至少四个毗邻的线与所述第一相位-光栅和所述第一分析器-光栅关联，并且所述线探测器单元中的至少四个毗邻的线与所述第二相位-光栅和所述第二分析器-光栅关联。所述光栅装置可以包括被布置在所述X射线源与所述相位-光栅结构之间的源-光栅结构，用于为经过所述源-光栅结构的所述X射线束提供足够的相干性，使得在经过所述相位-光栅结构之后，可以在所述分析器-光栅结构的位置处观察到干涉。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/