新型异羟肟酸衍生物
- 专利权人:
- 大正制药株式会社;富山化学工业株式会社
- 发明人:
- 高岛一,鹤田理纱,薮內哲也,冈裕辅,浦部洋树,须贺洋一郎,高桥正人,宇根內史,小坪弘典,庄司宗生,川口泰子
- 申请号：
- CN201180020006.X
- 公开号：
- CN103003233A
- 申请日:
- 2011.04.20
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 提供一种基于LpxC抑制作用，对绿脓杆菌等革兰氏阴性细菌及其药物耐性菌显示强抗菌活性，作为医药品有用的新型化合物。提供通式表示的异羟肟酸衍生物或其可药用盐。【化1】
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
