化妆料用皮膜形成剂及含有其的化妆料
- 专利权人:
- 陶氏东丽株式会社
- 发明人:
- 早田达央,菊永小百合,堀诚司
- 申请号：
- CN201880051451.4
- 公开号：
- CN110996900A
- 申请日:
- 2018.12.06
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种化妆料用皮膜形成剂及含有其的化妆料,所述化妆料用皮膜形成剂能够形成具有优异的耐水性、耐皮脂性并且也具有高清洗性的皮膜。本发明的化妆料用皮膜形成剂包含由如下单体组合物聚合而成的共聚物,所述单体组合物含有:(A)分子内具有至少一个聚硅氧烷结构的不饱和单体、及(B)分子内具有至少一个酸性基或其盐的不饱和单体,且单体(A)的含量以单体组合物为基准计为30重量%以上。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
