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利用改善的采样的微分相位对比成像
- 专利权人:
- 皇家飞利浦电子股份有限公司
- 发明人:
- T·克勒
- 申请号：
- CN201180041580.3
- 公开号：
- CN103079469B
- 申请日:
- 2011.08.26
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及对象的微分相位对比成像。为了增加X射线成像系统（2）的空间分辨率，探测器像素元件（8）的大小可以被认为是限制因素。相应地，增加用于相位对比成像的设备（38）的分辨率，而无需进一步降低个体像素元件（8）的面积。相应地，提供了利用改善的采样的相位对比成像的设备（38），其包括X射线源（4）、第一格栅元件G1（24）、第二格栅G2（26）以及包括多个探测器像素元件（8）的X射线探测器元件（6），每个探测器像素元件（8）具有像素面积A。待成像的对象（14）能够被布置在X射线源（4）与X射线探测器元件（6）之间。X射线源（4）、第一格栅元件G1（24）、第二格栅元件G2（26）和X射线探测器（6）能操作地耦合以用于对象（14）的相位对比图像的采集。第一格栅元件G1（24）和第二格栅元件G2（26）中的至少一个包括具有第一格栅跨度p1的第一面积A1和具有与第一格栅跨度不同的第二格栅跨度p2的第二面积A2。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
