A skin smoothing film made from a skin smoothing composition that comprises sodium silicate, polyvalent silicate and water. Moreover, the film may be made from a composition that has a contraction value of from about 30% to about 160%. The film thickness is from about 5 microns to about 50 microns, preferably from about 10 microns to about 40 microns, when applied. The standard deviation of the film over the area covered is less than about 30, preferably less than about 25.L'invention concerne un film de lissage de la peau fait à partir d'une composition lissant la peau comprenant du silicate de sodium, un silicate polyvalent et de l'eau. Le film peut par ailleurs être fait à partir d'une composition qui présente une valeur de contraction d'environ 30 % à environ 160 %. Une fois appliqué, le film a une épaisseur d'environ 5 microns à environ 50 microns, de préférence d'environ 10 microns à environ 40 microns. L'écart type du film sur la surface couverte est inférieur à environ 30, de préférence inférieur à environ 25.
