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CHARGED PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM
专利权人:
HITACHI LTD
发明人:
EBINA FUTARO,えび名 風太郎,NISHIUCHI HIDEAKI,西内 秀晶
申请号:
JP2012227588
公开号:
JP2014079300A
申请日:
2012.10.15
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged particle beam irradiation system capable of improving dose uniformity in a scanning irradiation method.SOLUTION: A charged particle beam irradiation system comprises: a synchrotron 10 for accelerating and extracting a charged particle beam and a beam transport device 20 for transporting the accelerated charged particle beam to an irradiation nozzle 40. The synchrotron 10 has a high-frequency voltage application device 17 for applying a high-frequency voltage to orbiting charged particle beams. The beam transport device 20 has a beam cut-off device 30 for cutting off passing charged particle beams. The high-frequency voltage application device 17 applies high-frequency voltages of different frequency spectrums during a period in which the beam cut-off device 30 cuts off charged particle beams and during a period in which charged particle beams are not cut off and are transported to the irradiation nozzle 40.COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT【課題】スキャニング照射法における線量一様度を改善できる荷電粒子ビーム照射システムを提供する。【解決手段】荷電粒子ビームを加速して取り出すシンクロトロン10と、加速した荷電粒子ビームを照射ノズル40に輸送するビーム輸送装置20を備える荷電粒子ビーム照射システムであって、シンクロトロン10は、周回する荷電粒子ビームに高周波電圧を印加する高周波電圧印加装置17を有し、ビーム輸送装置20は、通過する荷電粒子ビームを遮断するビーム遮断装置30を有し、高周波電圧印加装置17は、ビーム遮断装置30が荷電粒子ビームを遮断する期間と遮断せずに荷電粒子ビームを照射ノズル40に輸送する期間とで、異なる周波数スペクトルの高周波電圧を印加することで、上記課題を解決する。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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