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MASK FOR LOW FREQUENCY AND OPTICAL TREATMENT
专利权人:
SENBITEC
发明人:
YUN, KI JOON,윤기준
申请号:
KR1020120057131
公开号:
KR1020130133970A
申请日:
2012.05.30
申请国别(地区):
KR
年份:
2013
代理人:
摘要:
The present invention relates to a mask for treatment and, more specifically, to a mask for a low frequency and optical treatment which includes a mask including an optical source unit, one or more low frequency stimulus devices combined with the inside of the mask, a power supply unit for supplying electric power to the low frequency stimulus devices, and a control unit for controlling the optical source unit and the low frequency stimulus devices. The mask is small and improves portability, thereby allowing a user to hygienically take the low frequency and light treatment at home instead of in the hospital or in public areas.COPYRIGHT KIPO 2014본 발명은 치료용 마스크에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 광원부가 구비된 마스크와 상기 마스크의 내측면에 적어도 한 개 이상 결합되는 저주파자극기와 상기 광원부 및 상기 저주파자극기에 전기에너지를 공급하는 전원부 및 상기 광원부 및 상기 저주파자극기를 제어하는 제어부를 포함하여 크기가 작고 휴대성이 용이하여 병원 또는 공공장소가 아닌 가정집에서 위생적으로 저주파 및 광 치료를 받을 수 있는 저주파 및 광 치료용 마스크에 관한 것이다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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