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피부 자극 완화용 조성물
专利权人:
发明人:
김선영,백흥수,우병영,서정아,신홍주,김연준,남미희,윤정훈,주영협,임경민
申请号:
KR1020090022704
公开号:
KR1013670570000B1
申请日:
2009.03.17
申请国别(地区):
KR
年份:
2014
代理人:
摘要:
The present invention relates to a skin irritation to a composition comprising an active compound, its isomers, or acceptable salts of the formula pharmaceutical ingredient.(I)Compounds of the formula contained in the composition according to the invention, acceptable its isomers or a pharmaceutically acceptable salt, for example, retinoids (retinoid) or by inhibiting the inflammatory mediated expression of the factor caused by the surfactant, the skin irritation bar which shows an excellent effect, can be suitably used as an active ingredient of a composition for mitigating skin irritation.Skin irritation, retinoids, surfactants본 발명은 하기 화학식 1의 화합물, 그것의 이성질체 또는 약제학적으로 허용 가능한 염을 유효 성분으로 포함하는 피부 자극 완화용 조성물에 관한 것이다.(화학식 1)본 발명에 따른 조성물에 포함되는 화학식 1의 화합물, 그것의 이성질체 또는 약제학적으로 허용 가능한 염은 예를 들어, 레티노이드(retinoid) 또는 계면활성제 등에 의한 염증성 매개인자의 발현을 억제함으로써, 피부 자극 완화에 우수한 효과를 발휘하는 바, 피부 자극 완화용 조성물의 유효 성분으로 적합하게 사용될 수 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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