三唑并嘧啶化合物及其防治致病性真菌的用途

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专利权人:

巴斯福股份公司

发明人:

C·布莱特纳,F·席韦克,J·托尔莫艾布拉斯科,B·穆勒,M·格韦尔,W·格拉梅诺斯,T·格尔特,J·莱茵海默,P·舍费尔,A·施沃格勒尔,O·瓦格纳,J－B·斯皮克曼,T·雅布斯,S·施特拉特曼,U·舍夫尔,M·舍勒尔,R·施蒂尔

申请号：

CN200580015940.7

公开号：

CN1953980A

申请日:

2005.05.13

申请国别(地区):

中国

年份:

2007

代理人:

刘金辉`林柏楠

摘要：

本发明涉及式(I)的新型三唑并嘧啶化合物及其在防治有害真菌中的用途以及包含该类化合物作为活性组分的农药。在式(I)中，X、Y、L、m、Ar和A如下所定义：X为卤素、氰基、C₁－C₄烷基、C₁－C₄卤代烷基、C₁－C₄烷氧基或C₁－C₄卤代烷氧基；Y为卤素、C₁－C₄烷基或C₁－C₄卤代烷基；L相互独立地为卤素、C₁－C₆烷基、C₂－C₆链烯基、C₁－C₆卤代烷基、C₁－C₆烷氧基、C₁－C₆卤代烷氧基、硝基、氨基、NHR、NR₂、氰基、S(＝O)_nA¹或C(＝O)A²；m为1、2、3或4；A为化学键或基团CR⁴R⁵；Ar为苯基或含有1、2或3个选自O、S和N的杂原子作为环成员的5或6员杂芳基，其中苯基和杂芳基可以含有稠合的苯环且可以具有1、2、3、4或5个R^a取代基。R¹－R³如权利要求1所述定义。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/