Positional shifts between phase distribution on a wave-front sensor and a phase pattern for compensating on a waved-front modulation element are compensated for quickly and with high precision by a method that includes: a first step that displays a singular point generating pattern on a wave-front modulation element (12) a second step for measuring a wave-front shape for adjustment on a wave-front sensor (11) when a light image modulated by the singular point generating pattern is incident to the sensor (11) a third step for detecting the position of the singular point in the wave-front shape for adjustment from the measurement results by the sensor (11) and a fourth step for adjusting the positions of the wave-front shape measured by the wave-front sensor (11) and the pattern for compensation displayed on the wave-front modulation element (12).Selon la présente invention, des décalages de position entre une distribution de phase sur un capteur de front donde et un motif de phase à compenser sur un élément de modulation de front donde sont compensés rapidement et avec une précision élevée au moyen dun procédé qui fait appel à : une première étape daffichage dun motif de génération de point singulier sur un élément de modulation de front donde (12) une deuxième étape de mesure dune forme de front donde à ajuster sur un capteur de front donde (11) lorsquune image lumineuse modulée au moyen du motif de génération de point singulier est incidente sur le capteur (11) une troisième étape de détection de la position du point singulier dans la forme de front donde à ajuster à partir des résultats de mesure provenant du capteur (11) et une quatrième étape dajustement des positions de la forme de front donde mesurée par le capteur de front donde (11) et du motif à compenser affiché sur lélément de modulation de front donde (12).特異点生成パターンを波面変調素子12に表示させる第1ステップと、特異点生成パターンにより変調された光像が波面センサ11に入射したときの調整用波面形状をセンサ11において計測する第2ステップと、センサ11における計測結果から、調整用波面形状における特異点の位置を検出する第3ステップと、特異点の位置の位
