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作为IDO和TDO抑制剂的杂环化合物
专利权人:
杭州英创医药科技有限公司
发明人:
张汉承,刘世峰
申请号:
CN201610893887.0
公开号:
CN107056785A
申请日:
2016.10.13
申请国别(地区):
CN
年份:
2017
代理人:
摘要:
本发明提供了作为IDO和TDO抑制剂的杂环化合物,具体地本发明提供了一类新型杂环化合物,其合成及作为IDO抑制剂和TDO抑制剂的应用。根据本发明的作为IDO和TDO抑制剂的杂环化合物可以用于治疗与IDO1和/或TDO活性相关疾病。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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