电荷粒子束照射系统
- 专利权人:
- 株式会社日立制作所
- 发明人:
- 伊藤友纪,松田浩二,品川亮介,田所昌宏,西村荒雄
- 申请号：
- CN201510085293.2
- 公开号：
- CN104941076A
- 申请日:
- 2015.02.16
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种能够缩短电荷粒子束向照射对象的照射时间的电荷粒子束照射系统。具备：电荷粒子束产生装置，其加速地射出电荷粒子束；照射装置，其具有扫描电荷粒子束的扫描电磁铁，向照射对象的多个照射点射出加速后的电荷粒子束；射束射线量测量器，其求出通过照射装置内的电荷粒子束的射线量；射束位置测量器，其求出通过扫描电磁铁扫描的电荷粒子束的位置和宽度的任意一方或双方。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
