您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

粒子ビームの強度の制御
专利权人:
MEVION MEDICAL SYSTEMS INC
发明人:
KENNETH P GALL,ケネス・ピー・ガル,GERRIT TOWNSEND ZWART,ゲリット・タウンゼント・ズワート,JAN VAN DER LAAN,ヤン・ファン・デル・ラーン,ADAM C MOLZAHN,アダム・シー・モルツァン,CHARLES D ONEAL III,チャールズ・ディー・オニール・サード,THOMAS C SOBCZYNSKI,トーマス・シー・ソブジンスキー,JA
申请号:
JP2018072427
公开号:
JP2018110133A
申请日:
2018.04.04
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide intensity control of a particle beam, such as a proton or ion beam, used in particle therapy system.SOLUTION: A synchrocyclotron includes a particle source for feeding a pulse of ionization plasma to a cavity, a voltage source for accelerating the particles from a plasma column to the outside by applying a high frequency (RF) voltage to the cavity, and an extraction channel for receiving a particle beam from the cavity and outputting it from a particle accelerator. The particle source is configured to control the pulse width of the ionization plasma so as to control the intensity of the particle beam. This exemplary synchrocyclotron can includes one or more of the following features by itself or in combination.SELECTED DRAWING: Figure 17【課題】粒子治療システムで使用される陽子またはイオンビームなどの、粒子ビームの強度の制御を提供する。【解決手段】一例において、シンクロサイクロトロンは、電離プラズマのパルスを空洞に送り込むための粒子源と、高周波(RF)電圧を空洞に印加してプラズマ柱から粒子を外部に加速するための電圧源と、空洞から粒子ビームを受けて粒子加速器から出力するための引き出しチャネルとを備える。粒子源は、粒子ビームの強度を制御するために電離プラズマのパルス幅を制御するように構成される。この例示的なシンクロサイクロトロンは、以下の特徴のうちの1つまたは複数を、単独で、または組み合わせて含み得る。【選択図】図17
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充