A method of treating a product or surface with a reactive gas, comprises producing the reactive gas by forming a high-voltage cold plasma (HVCP) from a working gas； transporting the reactive gas at least 5 cm away from the HVCP； followed by contacting the product or surface with the reactive gas. The HVCP does not contact the product or surface.Bir ürünün veya yüzeyin bir reaktif gazla muamele edilmesine yönelik bir yöntem, reaktif gazın bir çalışan gazdan bir yüksek-voltajlı soğuk plazmanın (HVCP) oluşturulmasıyla üretilmesini； reaktif gazın HVCP'den en az 5 cm uzağa taşınmasını； ardından ürünün veya yüzeyin reaktif gazla temas ettirilmesini ihtiva eder. HVCP ürüne veya yüzeye temas etmez.
