您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

GAS SUPPLY DEVICE
专利权人:
ENOAH INC;株式会社エノア
发明人:
AONO FUMIAKI,青野 文昭
申请号:
JP2018056729
公开号:
JP2019166126A
申请日:
2018.03.23
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
To provide a gas supply device in which a time at which hydrogen-containing gas is generated is lengthened.SOLUTION: A gas supply device 1 includes a gas generation device 2, a tank 3, a pump 4, two gas feeding path pipes 60 and 61, a discharge path tube 62, and a water feeding pipe 63. In the gas supply device 1, when electrolysis is performed in the gas generation device 2, water vapor-containing oxygen and water vapor-containing hydrogen are sent to a non-water storage space 32 of the tank 3 through a first gas feeding path pipe 60 and a second gas feeding path pipe 61. However, in the gas supply device 1, the water vapor is condensed by being cooled by water pooled in a water storage space 31 of the tank 3, and becomes water again. This water is pooled in the water storage space 31 of the tank 3, and sent to a first separation space 28 of the gas generation device 2. Thereby, in the gas supply device 1, it is possible to lengthen a time at which the hydrogen-containing gas is generated, since a decrease in the water pooled in the gas generation device 2 can be suppressed.SELECTED DRAWING: Figure 1【課題】水素含有気体が生成される時間が長いガス供給装置を提供する。【解決手段】ガス供給装置1は、気体発生装置2と、タンク3と、ポンプ4と、2つの送気経路管60,61と、吐出経路管62と、送水経路管63とを備えている。ガス供給装置1では、気体発生装置2で電気分解が行われると、第1送気経路管60及び第2送気経路管61を介して、水蒸気を含む酸素及び水蒸気を含む水素が、タンク3の非貯水空間32に送られる。しかし、ガス供給装置1では、水蒸気は、タンク3の貯水空間31に貯留されている水で冷やされて凝結し、水に戻る。そして、その戻った水は、タンク3の貯水空間31に貯められた後、気体発生装置2の第1分離空間28に送られる。そのため、ガス供給装置1では、気体発生装置2に貯められた水の減少を抑えることができるので、水素含有気体が生成される時間を長くすることができる。【選択図】 図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充