一种低温等离子气体除臭装置
- 专利权人:
- 张哲夫
- 发明人:
- 张哲夫
- 申请号：
- CN201510643504.X
- 公开号：
- CN105126614B
- 申请日:
- 2015.10.08
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种低温等离子气体除臭装置，所述装置包括不锈钢反应箱以及在不锈钢反应箱两端设置的进气口、出气口。不锈钢反应箱内靠近进气口一侧依次设置活性炭过滤层、低温等离子反应腔，低温等离子反应腔内平行设置多组反应极板，低温等离子反应腔四周内壁上均匀安装多个紫外汞灯，并且四周内壁涂覆催化氧化反应涂层。本装置将低温等离子技术与涂层催化氧化、紫外氧化技术完美结合，成功解决了等离子体在净化过程中存在氧化不完全和臭氧残留导致二次污染的问题，降低了低温等离子的能耗。通过本装置处理的废气，恶臭气体的除率达到98%以上，有害微生物、细菌的去除率达到98.9%，粉尘颗粒的去除率达到96.2%。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
