防散射X-射线滤线栅器件及其制造方法
- 专利权人:
- 通用电气公司
- 发明人:
- J·J·肖,K·M·迪罗歇
- 申请号：
- CN201110190671.5
- 公开号：
- CN102389320A
- 申请日:
- 2011.06.28
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 一种制造防散射X-射线滤线栅器件(10)的方法以及由该方法制造的X-射线滤线栅器件(10)包括：提供由基本上不吸收X-射线的材料(16)制成的衬底(14)，在衬底(14)中包括通道(18)；在通道(18)的侧壁(20)上施加(32)同样基本上不吸收X-射线的材料(34)的层，其中该层包含第二材料(34)；然后在通道(18)的一部分中施加(44)显著吸收X-射线的材料(42)，以便定义多个X-射线吸收元件(12)。就具体实施例描述了本发明，并且意识到，除了那些明确叙述的内容之外，等效物、备选和修改都是可能的并且在随附权利要求的范围内。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
