含有不挥发性平衡离子的用于经涂覆的微突出物的制剂

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专利权人:

阿尔扎公司

发明人:

M·阿梅里,林伟琦,M·J·N·科尔米尔,马御方

申请号：

CN200480024334.7

公开号：

CN1842320B

申请日:

2004.06.29

申请国别(地区):

CN

年份:

2013

代理人:

摘要：

本发明提供了用于涂覆一个或多个微突出物的制剂，其减小或最小化平衡离子从涂层的丧失以便实现pH稳定化的制剂。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/