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PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE DÉTERMINATION D'UN PLAN DE RAYONNEMENT POUR UNE INSTALLATION DE RAYONNEMENT PARTICULAIRE
专利权人:
Siemens Aktiengesellschaft
发明人:
BOHSUNG, JÖRG,ELSÄSSER, THILO,GRÖZINGER, SVEN OLIVER,KIM, JOHANN,NEUHAUSER, ROBERT,RIETZEL, EIKE,SCHWEIZER, BERND,THILMANN, OLIVER
申请号:
EP13729667.9
公开号:
EP2830709A1
申请日:
2013.06.11
申请国别(地区):
EP
年份:
2015
代理人:
摘要:
Die Erfindung betrifft die Bestimmung eines Bestrahlungsplans für eine Partikelbestrahlungsanlage (20), wobei mit der Partikelbestrahlungsanlage (20) abhängig von dem Bestrahlungsplan ein Zielvolumen (6) innerhalb eines Untersuchungsobjekts (14; 18) mit einem Teilchenstrahl (16) bestrahlt wird. Der Bestrahlungsplan wird unter Vorgabe des Zielvolumens (6) und einer vorbestimmten Dosisverteilung in einem ersten Durchlauf bestimmt, um den Teilchenstrahl (16) gemäß der vorbestimmten Dosisverteilung in dem Zielvolumen (6), welches mehrere Isoenergieschichten (7-9) umfasst, zu applizieren. Gemäß der ersten erfindungsgemäßen Variante wird der Bestrahlungsplan in einem zweiten Durchlauf zusätzlich unter der Bedingung bestimmt, dass mindestens eine der Isoenergieschichten nicht bestrahlt wird, wobei diese mindestens eine der Isoenergie- schichten nach einem oder mehreren der folgenden Kriterien bestimmt wird. Gemäß der zweiten erfindungsgemäßen Variante wird der Bestrahlungsplan in einem zweiten Durchlauf zusätzlich unter der Bedingung bestimmt, dass nur bestimmte der Isoenergieschichten bestrahlt werden, wobei diese Isoenergieschichten nach einem oder mehreren der folgenden Kriterien bestimmt werden: • Einer minimalen Grenzenergie, welche der zur Bestrahlung eingesetzte Teilchenstrahl aufweist. • Einer maximalen Grenzenergie, welche der zur Bestrahlung eingesetzte Teilchenstrahl aufweist. • Der kleinsten Anzahl von Rasterpunkten der Isoenergieschichten, welche laut dem Bestrahlungsplan nach dem ersten Durchlauf bestimmt wird. • Der kleinsten Gesamtpartikelanzahl der Isoenergieschichten, welche laut dem Bestrahlungsplan nach dem ersten Durchlauf bestimmt wird. • Dem kleinsten Dosisbeitrag der Isoenergieschichten zur im Zielvolumen zu applizierenden Gesamtdosis. • Dem kleinsten Beitrag einer Zielfunktion, welche zur Bestimmung des Bestrahlungsplans für jede Isoenergieschicht berechnet wird. • Dem kleinsten Dosiskompensationsfehler der Isoenergieschichten. • Kleinster Änderung
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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