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表面活性添加剤およびこれを含むフォトレジスト組成物
- 专利权人:
- ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーＲｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＬＬＣ
- 发明人:
- ダヤン・ワン,チュンイ・ウー,コン・リュウ,ゲルハルト・ポーラース,チェン−バイ・スー,ジョージ・ジー．バークレー
- 申请号：
- JP20160225818
- 公开号：
- JP2017075323(A)
- 申请日:
- 2016.11.21
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】液浸リソグラフィにおいて、トップコートの酸性成分とフォトレジスト膜の酸感受性成分との強い相互作用に起因する表面損失を生じさせないフォトレジストの提供。【解決手段】特定の窒素含有（メタ）アクリレートモノマーと、第三級炭素部分が酸脱保護性基であるアルキルもしくはシクロアルキル（メタ）アクリレート酸脱保護性基モノマーと、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−ヒドロキシプロピル基、もしくはＣ１−４ペルフルオロアルキルスルホンアミド基を含有する（メタ）アクリレート表面活性モノマーとを含むモノマーの重合生成物を含むポリマーを含むフォトレジスト。【選択図】なし
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
