掺入离子的等离子喷涂的羟基磷灰石涂层及其制备方法
- 专利权人:
- 德普伊新特斯产品公司
- 发明人:
- R.卡西纳特,H.区
- 申请号：
- CN202010594308.9
- 公开号：
- CN112138210A
- 申请日:
- 2020.06.24
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明题为“掺入离子的等离子喷涂的羟基磷灰石涂层及其制备方法”。本发明提供了一种涂覆的植入物，其包括涂层，该涂层包括掺杂的羟基磷灰石部分和未掺杂的羟基磷灰石部分。该涂覆的植入物可通过用包含掺杂剂金属的溶液处理羟基磷灰石涂层来形成。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
