您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

Plant cultivation method, plant cultivation facility, and water treatment device
专利权人:
MITSUBISHI CHEM CLEANSUI CORP;三菱ケミカル・クリンスイ株式会社
发明人:
助清 泰教,宇野 祐子,SUKEKIYO YASUNORI,UNO YUKO
申请号:
JP2019003555
公开号:
JP2020110085A
申请日:
2019.01.11
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a uniform seedling by performing germination using water having an electric conductivity of not more than a specific value, and further to shorten the seedling raising period and improve plant productivity. A plant cultivation method comprising a step of bringing seed into contact with water having an electric conductivity of 50 μS/cm or less, such as ion-exchange treated water, and a seedling raising step of raising seedlings. Germination and raising of seedlings are carried out using a multistage shelf-type seedling raising device having a closed space that is shielded from light, and then planted and cultivated in a field that uses sunlight. [Selection diagram] Figure 1【課題】電気伝導率が特定値以下の水を用いて発芽を行うことにより、均質な苗を得ること、さらには、育苗期間を短縮し、植物の生産性を向上させる。【解決手段】種子をイオン交換処理水等の電気伝導率50μS/cm以下の水に接触させる工程と、次いで育苗する育苗工程とを有する植物栽培方法。遮光された閉鎖空間を有する多段棚式育苗装置を用いて発芽及び育苗を行い、その後太陽光を利用する圃場に定植し栽培する。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充