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一种按摩足浴盆
专利权人:
合肥和正医疗科技有限公司
发明人:
韩志伟,韩勇伟
申请号:
CN201520321250.5
公开号:
CN204600300U
申请日:
2015.05.18
申请国别(地区):
CN
年份:
2015
代理人:
摘要:
本实用新型公开了一种按摩足浴盆,包括盆体,其特征在于在盆体底部设置有按摩台,按摩台由盆体底部向上凸起,按摩台的顶部呈弧形,在按摩台上设置有安装槽,在安装槽内安装有按摩轮,在按摩台上还设置有防滑刻纹,防滑刻纹的图形形状为足底穴位图形,在按摩台中央设置有磁石安装台,在盆体的底部前端还设置有药盒。本实用新型相比现有技术具有以下优点:成本低廉,加工制造简便,功能多,按摩效果好,使用简单,便于携带。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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