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矮化中间砧大樱桃在保护地中的密植栽培方法
专利权人:
任红伟
发明人:
任红伟,丁米田,张国泰,王小耐,王云涛
申请号:
CN201510038295.6
公开号:
CN104620867B
申请日:
2015.01.27
申请国别(地区):
中国
年份:
2017
代理人:
董芙蓉
摘要:
一种矮化中间砧大樱桃在保护地中的密植栽培方法,包括以下步骤:(1)砧木选择,以及将引进的大樱桃矮化中间砧嫁接到基砧上;(2)矮化中间砧大樱桃品种苗木培育;(3)矮化中间砧大樱桃品种苗木密植栽培。本发明之矮化中间砧大樱桃在保护地中的密植栽培方法,所密植矮化中间砧大樱桃无根癌病、干腐病以及其他检疫病虫害,二年可形成树形,二年可进行结果,比现有的密植栽培方法所得的矮化大樱桃能够提前2~3年结果,提前上市,同时也提高樱桃产量和品质,产生较高的经济效益,为大樱桃的棚栽和盆栽提供了可能,使保护地大樱桃有了更大的发展空间。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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