PURPOSE: A dental restorative material composition containing bisphenol A polyoxyethylene dimethacrylate is provided to resolve high polymerization shrinkage and to prevent secondary dental caries. CONSTITUTION: A dental restorative material composition contains 10-50 wt% of bisphenol A polyoxyethylene dimethacryalte of chemical formula 1, 40-85wt% of inorganic filling agent, and 0.01-5 wt% of photoinitiator. The inorganic filling agent is quartz, barium glass, silica, zirconia, or alumino silicate. The photoinitiator is camphoquinone. The composition additionally contains anti-polymerizing agent, photostabilizing agent, antioxidant, or pigment.본 발명은 비스페놀 A 폴리옥시에틸렌 디메타크릴레이트를 기저재로 함유하는 치과용 수복재 조성물에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 비스페놀 A 폴리옥시에틸렌 디메타크릴레이트, 무기충전제, 광개시제 및 환원제를 함유하는 치과용 수복재 조성물에 관한 것이다. 비스페놀 A 폴리옥시에틸렌 디메타크릴레이트는 분자 구조 내에 히드록시기를 함유하는 비스페놀 A 글리세롤레이트 디메타크릴레이트의 히드록시프로폭시기를 폴리옥시에틸렌으로 치환함으로써 낮은 점도를 유지할 수 있으며, 따라서 본 발명의 수복재 조성물은 희석제를 필요로 하지 않는다. 따라서, 본 발명의 수복재 조성물은 희석제 사용에 따른 높은 중합수축율 문제를 개선할 수 있어 변연누출에 의한 2차적인 우식 발생을 예방할 수 있다. 또한, 기저재로 비스페놀 A 폴리옥시에틸렌 디메타크릴레이트를 이용함으로써 히드록시기에 의한 중합생성물의 수분흡수율 및 용해도를 낮출 수 있다.
