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暗场成像
- 专利权人:
- 皇家飞利浦有限公司
- 发明人:
- R·普罗克绍
- 申请号：
- CN201380034140.4
- 公开号：
- CN104428659A
- 申请日:
- 2013.06.26
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 摘要：
- 一种用于暗场成像的方法包括：利用包括X射线干涉仪的成像装置来采集物体的暗场图像投影；对于每个所采集的投影将具有预定频率的压力波应用于所述物体，其中，所述预定频率对于每个投影是不同的；并且处理所采集的投影，从而生成所述物体的3D图像。换言之，所述方法对应于声学调制的X射线暗场断层摄影。一种成像系统(400)包括：扫描器(401)，其被配置用于暗场成像，所述扫描器包括：源/探测器对(402/408)和对象支撑物(416)；压力波发生器(420)，其被配置为生成并且发射具有预定频率的压力波；以及控制台(424)，其控制所述扫描器和所述压力波发生器以利用应用于物体的具有不同频率的不同压力波来采集所述物体的至少两个暗场投影。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
