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牙科用修复体
- 专利权人:
- 三井化学株式会社
- 发明人:
- 长谷川在,土谷稳史,小岛甲也,冈崎光树,浅野阳介,藤井谦一,林孝晓
- 申请号：
- CN201580037050.X
- 公开号：
- CN106659639A
- 申请日:
- 2015.07.08
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明目的在于提供一种亲水性优异、防污性等优异的牙科材料，特别是牙科用修复体。本发明的牙科用修复体具有将包含下述物质的组合物固化而得的单层膜：化合物(I)，其具有选自阴离子性亲水基和阳离子性亲水基中的至少一个亲水基、和至少一个带有聚合性碳‑碳双键的官能团；化合物(II)，其具有两个以上带有聚合性碳‑碳双键的官能团(其中，该化合物(II)既没有阴离子性亲水基也没有阳离子性亲水基。)；和表面活性剂(III)，其具有亲水部和疏水部，所述亲水部具有阴离子性亲水基、阳离子性亲水基或两个以上羟基，所述疏水部包含有机残基(其中，该表面活性剂(III)没有聚合性碳‑碳双键。)。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
