KELLER, ANTON,KELLER, Anton,EICK, STEFAN,EICK, Stefan,MASER, THOMAS,MASER, Thomas
申请号：
EPEP2015/074596
公开号：
WO2016/066542A1
申请日:
2015.10.23
申请国别(地区):
EP
年份:
2016
代理人:
摘要：
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Steuerung eines Behandlungsvorgangs, mit einem Behandlungswerkzeug, insbesondere einem HF-Chirurgischen Instrument, und einer Energiequelle zum Einbringen elektrischer Leistung in ein zu behandelndes Material, und einer Steuereinrichtung zur Steuerung der Energiequelle. Die Steuereinrichtung ist dazu ausgelegt, die Energiequelle derart zu steuern, dass in einer ersten Behandlungsphase eine Regelung der in das zu behandelnde Material eingespeisten Leistung mit rampenförmigem, vorzugsweise linearem, Verlauf erfolgt. Eine Impedanzerfassungseinrichtung ermittelt den Impedanzverlauf und/oder die aktuelle Impedanz des zu behandelnden Materials erkennt das Erreichen eines Impedanzminimums. Ein Zeitgeber wird bei Erkennen eines Impedanzminimums gestartet und bei Erkennen eines weiteren Impedanzminimums innerhalb des bestimmten Zeitintervalls wieder rückgesetzt, wonach er erneut zu laufen beginnt. Wenn kein neues Impedanzminimum innerhalb des bestimmten Zeitintervalls erkannt wird und das Zeitintervall abläuft, schaltet die Steuereinrichtung die Leistungsregelung auf konstante Leistung oder einen Leistungsverlauf mit veränderter Steigung um. Bei Erfüllung eines bestimmten Kriteriums wird von Leistungsregelung auf Spannungsregelung umgeschaltet.The invention relates to a method and to a device for controlling a treatment process, said device comprising a treatment tool, in particular an HF surgical instrument, an energy source for inputting electrical power into a material to be treated, and a control apparatus for controlling the energy source. The control apparatus is designed to control the energy source in such a way that the power fed into the material to be treated is controlled having a ramp-shaped, preferably linear course in a first treatment phase. An impedance-sensing apparatus determines the impedance progression and/or the present impedance of the material to be treated and detects the attainment of an
