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패턴화된 임플란트 및 방법
专利权人:
AMS RESEARCH CORPORATION
发明人:
JAGGER KARL A.,재거, 칼, 에이.,HACKER DEAN,해커, 딘,FELTON JESSICA,펠튼, 제시카,FRIGSTAD JOHN R.,프릭스태드, 존, 알.,PETERSON ALEX,페터슨, 알렉스
申请号:
KR1020127015289
公开号:
KR1020120112456A
申请日:
2010.11.23
申请国别(地区):
KR
年份:
2012
代理人:
摘要:
A unitary or homogeneous patterned implant is provided. The implant is constructed of patterned cells formed by way of a molding, die casting, laser etching, laser cutting, extruding, and the like. Portions of the implant can be formed into sinusoid or other waveform strut members to control and promote elongation, expansion or contraction along single or multiple axes. As such, controlled and designated stress, tension and compression distribution is promoted across specific or localized areas of the implant.단일의 또는 균질한 패턴화된 임플란트가 제공된다. 이 임플란트는 몰딩, 다이 캐스팅, 레이저 에칭, 레이저 절단, 압출 등으로 형성되는 패턴화된 셀로 구성된다. 임플란트의 부분들은 단일 또는 복수의 축을 따른 연신, 팽창 또는 수축을 제어 및 조장하기 위해 사인곡선 모양의 또는 다른 파형의 지주 부재로 형성된다. 이처럼 제어 및 지정된 응력, 비틀림 및 압축 분포는 임플란트의 특정 또는 국부적인 영역을 따라 조장된다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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