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NITROGEN CONTAINING HETEROARYL COMPOUNDS
专利权人:
에프. 호프만-라 로슈 아게
发明人:
블라이허 콘라드,플로어 알렉산더,그뢰브케 즈빈덴 카트린,그루버 펠릭스,쾨르너 마티아스,쿤 베른트,페터스 옌스-우베,로드리궤즈 사르미엔토 로사 마리아
申请号:
KR1020137000568
公开号:
KR1017579590000B1
申请日:
2011.06.06
申请国别(地区):
KR
年份:
2017
代理人:
摘要:
The present invention relates to novel nitrogen-containing heteroaryl compounds of formula (I), their physiologically acceptable salts and esters: (I) In this formula, A 1 , A 2 , , R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are as defined in the specification and claims. These compounds inhibit PDE10A and can be used as medicaments.본 발명은, 하기 화학식 (I)의 신규한 질소-함유 헤테로아릴 화합물, 이의 생리학적으로 허용가능한 염 및 에스터에 관한 것이다: (I)상기 식에서, A1, A2, , R1, R2, R3, R4, R5 및 R6은 명세서 및 특허청구범위에 정의된 바와 같다. 이러한 화합물은 PDE10A를 억제하고, 약제로서 사용될 수 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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