ラジカル抑制剤

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专利权人:

IHI CORPORATION

发明人:

EGUCHI, Haruki,江口 晴樹

申请号：

JPJP2012/074938

公开号：

WO2013/061724A1

申请日:

2012.09.27

申请国别(地区):

WO

年份:

2013

代理人:

摘要：

Provided are a novel radical inhibitor, a composition containing the same, and a radical generation inhibition method using the same. This radical inhibitor comprises a salen complex compound of a divalent metal.Linvention fournit un nouvel inhibiteur de radicaux, une composition comprenant cet inhibiteur, et un procédé dinhibition de génération de radicaux mettant en œuvre cette composition. Linhibiteur de radicaux de linvention constitue un composé métal salen bivalent.新規なラジカル抑制剤、これを含有する組成物、及び、これを用いたラジカル生成抑制方法を提供する。本発明に係るラジカル抑制剤は2価金属のサレン錯体化合物からなる。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/