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一种基于羟基磷灰石的牙科抑菌修复材料及其制备方法
专利权人:
武汉理工大学
发明人:
董丽杰,陈卓,陈顺,陆志伟,张扬,赵广辉
申请号:
CN201610583481.2
公开号:
CN105999401B
申请日:
2016.22.07
申请国别(地区):
CN
年份:
2019
代理人:
摘要:
本发明涉及基于羟基磷灰石的牙科抑菌修复材料及其制备方法。它包括羟基磷灰石、以及负载在羟基磷灰石上的聚硅氧烷或聚苯乙烯‑聚硅氧烷共聚物、聚乙二醇或含PEG结构的聚合物,其中:聚硅氧烷或聚苯乙烯‑聚硅氧烷共聚物质量占羟基磷灰石质量的5%~30%,PEG或含PEG结构的聚合物质量占羟基磷灰石质量的5%~35%。该牙齿生长修复材料机械强度高、生物相容性好,并具有良好的抑菌性。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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