一种B超耦合剂上料装置
- 专利权人:
- 孙艳平
- 发明人:
- 孙艳平,林雁,王佳
- 申请号：
- CN201621338648.0
- 公开号：
- CN206518566U
- 申请日:
- 2016.12.08
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本实用新型涉及一种B超耦合剂上料装置，底座上安装有固定杆，固定杆的顶部设置有耦合剂添加装置，固定杆的中部安装有支撑座，支撑座外侧套装有旋转轴，旋转轴外侧固定安装有直行杆，直行杆与旋转杆相连接，旋转杆的末端安装有涂抹球，利用耦合剂添加装置添加物料，并利用可以折叠旋转的旋转杆末端的涂抹球进行接料，同时反向旋转将涂抹球对准需要涂抹的位置，利用涂抹球上设置的浮点对耦合剂进行均匀的涂抹，达到不用再次接触的方式实现上料，避免了二次污染，并且涂抹高效快捷，涂抹均匀，有助于B超作业的下一步运行。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
