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自己修復性を有する高分子材料及びその製造方法
- 专利权人:
- 国立大学法人大阪大学
- 发明人:
- 原田 明,▲高▼島 義徳,小林 裕一郎,中畑 雅樹,森 祥子
- 申请号：
- JP20160532848
- 公开号：
- JPWO2016006413(A1)
- 申请日:
- 2015.06.19
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 応力緩和に優れるのみならず、傷が付いたり切断されたりしても容易に元の状態に修復することができる自己修復性を有する高分子材料及びその製造方法を提供する。本発明の自己修復性を有する高分子材料は、少なくともポリロタキサン分子２を含む重合体が架橋されてなる架橋構造体１を含有する。ポリロタキサン分子２は、環状分子２１と、この環状分子２１の開口部２１ａを貫通する直鎖状分子２２とを有して形成される。架橋構造体１は、前記ポリロタキサン分子２の環状分子２１と、このポリロタキサン分子２以外の重合体分子３とが可逆的な結合を介して架橋されている。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
