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입자 빔 발생장치
专利权人:
ELECTRONICS AND TELECOMMUNICATIONS RESEARCH INSTITUTE
发明人:
SHIN, DONG HOKR,신동호,JUNG, MOON YOUNKR,정문연
申请号:
KR1020150045198
公开号:
KR1020160116859A
申请日:
2015.03.31
申请国别(地区):
KR
年份:
2016
代理人:
摘要:
A particle beam generator according to an embodiment of the present invention may include a first light source which generates incident light, a first light collecting part which condenses the incident light on a target, a second light source which generates a laser beam, a second light collecting part which condenses the laser beam on the target, and a detection part which detects a particle beam. The target can generate particle beam by the laser beam. The target may include a photoconductive material which forms electron-hole pairs inside by the emission of the incident light. So, beam generation efficiency can be improved.COPYRIGHT KIPO 2016본 발명의 실시예에 따른 입자 빔 발생장치는 입사광을 생성하는 제 1 광원, 상기 입사광을 타깃에 집속하는 제 1 집광부, 레이저 빔을 생성하는 제 2 광원, 상기 레이저 빔을 상기 타깃에 집속하는 제 2 집광부, 및 상기 입자 빔을 검출하는 검출부를 포함할 수 있다. 상기 레이저 빔에 의해 상기 타깃은 입자 빔을 생성할 수 있다. 상기 타깃은 상기 입사광의 조사에 의해 내부에 전자-정공 쌍을 형성시키는 광전도성 물질을 포함할 수 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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