释放负离子功能面膜
- 专利权人:
- 北京森源华诚科技发展有限公司
- 发明人:
- 李青山,刘焕萍,王玉,张蕴龄
- 申请号：
- CN201510559161.9
- 公开号：
- CN105616271A
- 申请日:
- 2015.09.06
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 摘要：
- 释放负离子功能面膜以基质粉剂、水、表面活性剂、保湿剂等为基本原料，利用后添加的工艺技术，在普通面膜中添加以连翘、金银花、负离子添加剂为主要原料的助剂，使其具有美容、保健的功效。本发明的特征是配方如下：豆类基质粉剂50-100；连翘、金银花0.1-20；负离子添加剂0.1-5；表面活性剂0.1-5；保湿剂0.1-10。面膜是以基质粉剂、水、表面活性剂、保湿剂等为基本原料通过研磨、分散、混匀等工艺制成。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
