您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

Matériau dentaire comprenant une substance anti-microbienne
专利权人:
Ivoclar Vivadent AG
发明人:
SALZ, ULRICH, DR.,BOCK, THORSTEN, DR.,FIK, CHRISTOPH P.,TILLER JOERG, PROF. DR.,RHEINBERGER, VOLKER, DR.
申请号:
EP11154589.3
公开号:
EP2489344A1
申请日:
2011.02.15
申请国别(地区):
EP
年份:
2012
代理人:
摘要:
Die Erfindung betrifft einen Dentalwerkstoff, der (a) mindestens eine antimikrobiell wirksame Verbindung der Formel (I)        [AG]m-R1-Z-SP-Y-R2- [WG]p     (I),oder einen mit mindestens einer Verbindung der Formel (I) oberflächenmodifizierten Füllstoff, (b) mindestens ein radikalisch polymerisierbares Monomer und (c) mindestens einen Initiator für die radikalische Polymerisation enthält. Die Erfindung betrifft auch eine Verwendung eines solchen Dentalwerkstoffs zur Herstellung eines Adhäsivs, Primers, Zements, Beschichtungsmaterials oder Füllungsmaterials.Die Erfindung betrifft zudem ein Dentalmaterial, das mindestens eine Verbindung der Formel (I) enthält, sowie die Verwendung einer Verbindung der Formel (I) zur Modifizierung der Oberfläche eines Substrats ausgewählt aus keramischen Werkstoffen, Edel- und Nichtedelmetallen, Zahnhartsubstanz, Zahnschmelz, Dentin, Kollagen, Weichgewebe, Schleimhaut und Leder.Dental restorative material comprises: (a) at least one antimicrobially active polymer (I) or a filler i.e. surface-modified with (I); (b) at least one radically polymerizable monomer; and (c) at least one initiator for the radical polymerization. Dental restorative material comprises: (a) at least one antimicrobially active polymer of formula ([AG] m-R1-Z-SP-Y1-R2-[WG] p) (I) or a filler i.e. surface-modified with (I); (b) at least one radically polymerizable monomer; and (c) at least one initiator for the radical polymerization. R1, R2 : 6-14C aromatic radical (optionally substituted), absent, and/or linear or branched 1-20C alkylene radical which can be interrupted one or more times by O, S, NH, N +>;R3 2, SiR3 2, OSiR3 2, CONH, CONR3, COO and/or OCONH; R3 : phenyl (optionally substituted), linear or branched 1-20C alkyl radical, or benzyl radical; AG : an anchor group comprising -P((OR11a)(OR11b))=O, -O-P((=O)(OR11b))-OR11a, or -O-P((OR11a)(OR11b))=O; either R11a, R11b : H, alkyl, aryl or -Si(alkyl) 3, where alkyl is preferably methyl, ethyl, n-pro
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
相关发明人
相关专利

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充