一种静电纺丝牙釉质再矿化贴膜的制备方法
- 专利权人:
- 昆明理工大学
- 发明人:
- 陈庆华,王琬莹,田哲玮,陈希亮
- 申请号：
- CN201811336902.7
- 公开号：
- CN109453036A
- 申请日:
- 2018.12.11
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开一种静电纺丝牙釉质再矿化贴膜的制备方法,属于生物医学材料应用技术领域。本发明采用明胶和氨基酸改性的纳米羟基磷灰石为原料,通过静电纺丝法制备出明胶/改性纳米羟基磷灰石复合多孔支架材料;该方法制备出的牙釉质贴膜,具有纳米级或亚微米级超细纤维结构,并且有良好的力学性能及生物相容性能,有利于脱矿牙釉质再矿化,可在齿科修复领域得到应用。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
