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- METHOD FOR THE MASK-ETCHING OF A PIERCING ELEMENT
专利权人:
에프. 호프만-라 로슈 아게
发明人:
치펠 마르첼리누스,로페즈 므라스 앙겔
申请号:
KR1020147007538
公开号:
KR1016518090000B1
申请日:
2012.09.19
申请国别(地区):
KR
年份:
2016
代理人:
摘要:
The present application is based on the teachings herein of a surgical instrument that includes a elongate shaft 16, a distal projecting tip 18, a proximal retention portion 20, and a lateral side extending to the region of the tip 18 along the shaft 16, To a method for mask-etching of a penetrating element (14) having an open collector channel (22). For this purpose, a double-sided etching mask 10 is applied to two sides of the substrate 12, and under the action of an etchant, the penetrating element 14 is formed as a portion made by chemical blanking, 10 has a channel etch slit 38 for the unilateral etch of the collecting channel 22. The channel etch slit 38 has a channel etch slit 38, The proximal and / or distal ends 40, 60 of the channel etch slit 38 are configured to taper toward the ends of the slit.본원은, 세장형 샤프트 (16), 원위방향으로 돌출된 팁 (18), 근위 유지부 (20), 및 체액을 수집하고 샤프트 (16) 를 따라서 팁 (18) 의 영역까지 연장되는 측방향으로 개방된 수집 채널 (22) 을 갖는 관통 요소 (14) 의 마스크-에칭을 위한 방법에 관한 것이다. 이 목적을 위해서, 양면 에칭 마스크 (10) 가 기재 (12) 의 2 개의 측부들에 적용되고, 에칭제의 작용하에서, 관통 요소 (14) 는 화학 블랭킹에 의해서 만들어진 부분으로서 형성되고, 에칭 마스크 (10) 의 채널 측부 (28) 는 수집 채널 (22) 의 일측성 (unilateral) 에칭을 위한 채널 에칭 슬릿 (38) 을 구비한다. 채널 에칭 슬릿 (38) 의 근위 및/또는 원위 단부 (40, 60) 는 슬릿의 단부를 향해서 테이퍼링되도록 구성된다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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