In a device for treating a surface with a dielectric barrier plasma, the surface functions as a counter electrode and the device has an electrically insulating housing (1) formed by a housing body (4) and a housing head (17) A support for high-voltage supply line 10 and electrode 18 is located and the electrode is connected to the high-voltage supply line 10 and a dielectric 19 shielding the electrode 18 from the surface. The electrode 18 being rotatably mounted on the housing head 17 and projecting out of the housing head 17 over a surface section covered by the dielectric 19, Wherein said electrode has a rotational bearing element (28) disposed in a central axis and rotates together with said rotational bearing element in a housing head (17) Voltage supply line 10, and the housing head 17 is rotated about an axis of rotation that is tilted with respect to the center axis And the housing head is provided with a contact device (11, 21) that maintains an electrical connection during a rotational movement.유전체 장벽 플라즈마로 표면을 치료하는 디바이스에서, 표면은 상대 전극으로 기능하고, 상기 디바이스는 하우징 바디 (4) 및 하우징 헤드 (17)로 형성되는 전기 절연 하우징 (1)을 가지고, 상기 전기 절연 하우징에는 고-전압 공급 라인 (10) 및 전극 (18)용 지지부가 위치되고, 상기 전극은 상기 고-전압 공급 라인 (10)에 연결되고, 상기 전극 (18)을 상기 표면으로부터 차폐시키는 유전체 (19)를 가지고, 상기 전극 (18)은 하우징 헤드 (17)에서 회전 가능하게 장착되고, 상기 유전체 (19)에 의해 덮여진 표면 섹션을 걸쳐 하우징 헤드 (17) 외부로 돌출되어, 간단한 구성으로 치료될 표면 위에서 전극의 본질적으로 제한되지 않은 이동을 허용하고, 상기 전극은 중심 축에 배치된 회전 베어링 요소 (28)를 가지고 상기 회전 베어링 요소와 함께 하우징 헤드 (17)에서 회전 베어링 요소 (29)와 상호 작용하여 중심 축을 중심으로 회전 가능하게 장착되고 고-전압 공급 라인 (10)에 연결되며, 그리고 상기 하우징 헤드 (17)는 중심 축에 대해 기울어진 회전 축을 중심으로 회전될 수 있도록 하우징 바디 (4)에 연결되고, 상기 하우징 헤드에는 회전 움직임 동안에 전기 연결을 유지하는 접촉 장치 (11, 21)가 구비된다.
