表皮CML形成抑制剤

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专利权人:

KAO CORP

发明人:

MORIKAWA TOMOHIKO,森河 朋彦,KAWABATA KEIGO,川端 慶吾,INOUE YOSHIFUMI,井上 敬文,JO SHIORI,城 しおり,MATSUE KOJI,松江 浩二

申请号：

JP2015235016

公开号：

JP2017100991A

申请日:

2015.12.01

申请国别(地区):

JP

年份:

2017

代理人:

摘要：

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a CML formation inhibitor that inhibits CML formation in an epidermis, an agent for preventing or improving the aging of an epidermis, and an agent for preventing or improving the yellow discoloration of an epidermis.SOLUTION: An epidermis CML formation inhibitor has clove or extract thereof as an active ingredient.SELECTED DRAWING: NoneCOPYRIGHT: (C)2017,JPO&INPIT【課題】表皮におけるCML形成を抑制するCML形成抑制剤、表皮老化の予防又は改善剤、表皮黄変化予防又は改善剤の提供。【解決手段】チョウジ又はその抽出物を有効成分とする表皮におけるCML形成抑制剤。【選択図】なし

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/