PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas supply system which permits the concentration of an odor-causing substance to be controlled and the odor-causing substance to be stably supplied.SOLUTION: The gas supply system includes a storage section 2 storing the odor-causing substance 20, first piping 31 supplying the substance 20 released from the storage section 2 by a carrier gas carrying the substance, second piping 41 supplying a dilution gas, third piping 42 supplying a mixed gas in which the carrier gas containing the substance 20 supplied from the first piping 31 and the dilution gas supplied from the second piping 41 are mixed, a measuring instrument 6 measuring the mass of the storage section 2, a computation device 7 for computing the mass of the substance 20 released from the storage section 2 on the basis of the time-dependent change of the mass of the storage section 2, and a control device 8 controlling the flow rate of the carrier gas flowing in the first piping 31 and the flow rate of the dilution gas flowing in the second piping 41 so as to ensure that the concentration of the substance 20 in the mixed gas becomes a required concentration on the basis of the quantity of the substance 20 computed by the computation device 7.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】においの原因となる物質の濃度を制御し、においの原因となる物質を安定的に供給することが可能なガス供給装置を提供することを目的とする。【解決手段】においの原因となる物質20を収容する収容部2と、収容部2から放出された物質20をキャリアガスにのせて供給する第1配管31と、希釈ガスを供給する第2配管41と、第1配管31から供給された物質20を含むキャリアガスと第2配管41から供給された希釈ガスとが混合された混合ガスを供給する第3配管42と、収容部2の質量を測定する測定装置6と、収容部2の質量の時間変化に基づいて、収容部2から放出された物質20の量を演算する演算装置7と、演算装置7で演算された物質20の量に基づいて、混合ガス内の物質20の濃度が所望の濃度になるように、第1配管31内を流れるキャリアガスの流量と第2配管41内を流れる希釈ガスの流量とを制御する制御装置8と、を含む。【選択図】図1
